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洗浄・改質システム

紫外線、電子線による環境にやさしいクリーンな洗浄・改質システム。

紫外線洗浄

紫外線の作用で発生したオゾンから分離した活性酸素の作用で有機汚染物質を揮発性の物質 (例えばH₂O、CO、CO₂、NO₂ など) に分解変化させて除去します。

紫外線改質

有機系被照射物に紫外線を照射し、表面層の化学結合を切断するとともに、紫外線で発生したオゾンから分離した活性酸 素がその切断された表面層の分子に結合し、親水性の高い官能基 (例えば-OH、-CHO、-COOH) に変換します。

紫外線ランプ

紫外線洗浄・改質装置は、水銀ランプやエキシマランプからの紫外線による洗浄・改質処理を行う、溶剤不要の地球・作業者にやさしいシステム。被照射物に熱や湿気によるダメージを与えることなく有機物の除去、接着・密着性向上などの効果が得られ、電気、自動車、半導体など各分野の製造工程で採用されています。

インライン式紫外線洗浄・改質装置

生産ライン、ワーク形状に合わせた設計で、紫外線洗浄・改質の連続処理が可能です。

絶縁膜用光改質装置

液晶ガラスの内側にパターニングされている電極の絶縁保護膜を改質する装置です。

バッチ式紫外線洗浄・改質装置

コンパクト、軽量サイズ。生産・実験用の紫外線洗浄・改質処理が簡単操作で行えます。

光洗浄・改質装置

PI膜等を塗布する前に濡れ性向上のためUVを照射します。また、レジスト剥離後の残渣除去のために使用します。

電子線照射装置

新規材料開発と高付加価値化を目指す研究に電子線照射を活用。

オゾナイザー

セラミック電極による高濃度オゾン発生装置。半導体の酸化膜生成、液晶ガラス洗浄等に利用。

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