サイト内検索ヘルプ


光応用分野

硬化・架橋・重合システム

コンセプト EB

イワサキが追及しつづけている新しい光、電子線・紫外線が産業分野の開発・生産シーンで重要な役割を担っています。紫外線による感光材の硬化作用を利用した「紫外線硬化システム」は、印刷やコーティング、接着など様々な表面処理加工システムに応用されています。液晶パネル製造では、液晶滴下工法用の紫外線硬化システムが、パネルの大型化と工数・コスト削減に貢献しています。「電子線照射システム」は、電子線照射による硬化・架橋反応を利用したフィルムの架橋、コーティング、他、幅広い分野に応用され、高機能化などの新技術の研究開発にも役立っています。

電子線照射施設のご案内

委託照射

アイ・エレクトロンビーム設置のEBシステムは、実験機、パイロットライン、生産ラインの3種類からなる充実のシステムです。生産ラインの照射幅は1650mmと国内最大規模で、広幅の処理物に対する均一処理が可能です。また、コーティング装置はパイロットライン、生産ライン共に、従来のグラビアコートに加えて康井精機製のマイクログラビアコーターを導入し、厚み精度の高い薄膜コーティングと、高速処理を実現しました。研究・実験段階から生産まで、皆さまのあらゆるご要望にトータルに対応します。なお、見学・サンプル照射も随時行っていますので、お気軽にお問合せください。

国内最大規模の照射巾1650mm
生産ライン
このEB装置は、(株)アイ・エレクトロンビームに設置しています。

生産ライン
ESI製 TYPE: EC300/165/800
コーターラミネーター
コロナ処理装置等
クリーンルーム内に設置
加速電圧: 100〜300kV
照射幅: 1650mm
最大照射能力: 8000kGy・m/min

パイロットライン
パイロットライン
ESI製 TYPE: CB200/45/300
コーターラミネーター
コロナ処理装置等
クリーンルーム内に設置
加速電圧: 150〜200kV
照射幅: 450mm
最大照射能力: 3000kGy・m/min

(株)アイ・エレクトロンビームのホームページ

PAGE TOP

PAGE BACK

この商品に関するお問い合わせはこちらから
SSL対応ページがご利用いただけない方はこちらから